Study on temperature and etching effects on silicon oxide formation using laser ellipsometric method
Other Title(s)
دراسة تأثير درجة الحرارة و التنميش في تكوين أوكسيد السيليكون باستخدام طريقة تدوير مستوى استقطاب الليزر
Joint Authors
Jraiz, Ammar H.
Yahya, Khalid Z.
al-Baldawi, Ammar M.
Source
Engineering and Technology Journal
Issue
Vol. 25, Issue 06 (30 Aug. 2007), pp.797-807, 11 p.
Publisher
Publication Date
2007-08-30
Country of Publication
Iraq
No. of Pages
11
Main Subjects
Topics
Abstract AR
في هذا البحث استخدمت طريقة تدوير مستوى استقطاب شعاع الليزر لدراسة تكوين أغشية الاوكسيد على قاعدة سيليكونية في الهواء عند درجة حرارة الغرفة استخدم نوعان من الليزرات الأول ليزر الهليوم-نيون و الثاني ليزر أشباه الموصلات كما استخدم مصباح التنكستن كمصادر ضوئية في هذه الطريقة لبيان أهمية التشاكه على دقة النتائج.
جرت قياس سمك طبقة الاوكسيد و مقارنتها بالنتائج المحسوبة لطبقة أحادية من الاوكسيد، جرى دراسة سلوك الاكاسيد المتكونة حراريا باستخدام تقنية تدوير مستوى الاستقطاب لتحديد زاوية الاستقطاب كدالة لزمن التنميش.
Abstract EN
In this paper, a laser ellipsometric method is implemented to study the formation of oxide films on silicon substrate at room temperature in air.
Two lasers, He-Ne and semiconductor diode, as well as a tungsten halogen lamp, were used as a light source in this method to show the importance of coherency for accurate results.
The thickness of oxide layer was measured and the result is compared with that calculated for a monolayer of oxide.
Behavior of thermally formed oxides was studied using ellipsometry to determine polarizer angle as a function of etching time.
American Psychological Association (APA)
Yahya, Khalid Z.& al-Baldawi, Ammar M.& Jraiz, Ammar H.. 2007. Study on temperature and etching effects on silicon oxide formation using laser ellipsometric method. Engineering and Technology Journal،Vol. 25, no. 06, pp.797-807.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-52823
Modern Language Association (MLA)
Yahya, Khalid Z.…[et al.]. Study on temperature and etching effects on silicon oxide formation using laser ellipsometric method. Engineering and Technology Journal Vol. 25, no. 06 (2007), pp.797-807.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-52823
American Medical Association (AMA)
Yahya, Khalid Z.& al-Baldawi, Ammar M.& Jraiz, Ammar H.. Study on temperature and etching effects on silicon oxide formation using laser ellipsometric method. Engineering and Technology Journal. 2007. Vol. 25, no. 06, pp.797-807.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-52823
Data Type
Journal Articles
Language
English
Notes
Includes bibliographical references : p. 803-804
Record ID
BIM-52823
