![](/images/graphics-bg.png)
Reactive DC magnetron sputter deposition and structural properties of NiO thin films
العناوين الأخرى
ماكنترون و الخواص التركيبية لأغشية أوكسيد النيكل DC الترسيب بالترذيذ التفاعلي لل
المؤلفون المشاركون
Agul, Ibrahim R.
Abd Muslim, Shayma H.
Talaq, Riyad N.
Khalaf, Muhammad Khammas
المصدر
Engineering and Technology Journal
العدد
المجلد 33، العدد 6B (30 يونيو/حزيران 2015)، ص ص. 1082-1092، 11ص.
الناشر
تاريخ النشر
2015-06-30
دولة النشر
العراق
عدد الصفحات
11
التخصصات الرئيسية
الملخص AR
تم ترسیب أغشية اوكسید النیكل (NiO) باستخدام منظومة بلازما الماكنترون للتیارات المستمرة المحلیة الصنع و بطریقة الترذیذ التفاعلي و بضغوط عمل مختلفة ضمن المدى (0.04-0.05) ملي بار.
و قد تم دراسة تأثیر ضغط العمل على تركیب و مورفولوجیة السطح و الخواص البصریة لأغشية اوكسید النیكل.
و قد أظھرت نتائج حیود الأشعة السینیة أن الأغشية المترسبة ذات تركیب نانوي و بمعدل حجم حبیبي بین (8.145-29.195) نانومتر.
بالإضافة لكون الأغشية ذات طابع متعدد التبلور مع بنیة مكعبة على طول (111)و(101) التوجھ.
و علاوة على ذلك تم العثور على Ni2O3 بواسطة حیود الأشعة السینیة.
كما تم دراسة تركیب الأغشية باستخدام SEM وAFM ، و قد لوحظ زیادة حجم الحبوب مع زیادة ضغط العمل.
و قد وجد أن فجوة الطاقة في حدود (4.1) إلكترون - فولت إلى 3.9 إلكترون - فولت) عندما یكون سمك الغشاء یتراوح بین 73 نانومتر إلى 146.9 نانومتر.
الملخص EN
Nickel oxide (NiO) films were deposited by using a homemade DC reactive magnetron sputtering system at different working pressure in the range (0.05-0.14)mbar.
The effect of working pressure on the structure, surface morphology, optical of NiO films was investigated.
X-ray diffraction (XRD) results suggested that the deposited films were formed by nanoparticles with average particle size in the range of (8.145-29.195) nm.
And the films are identified to be polycrystalline nature with a cubic structure along (111) and (101) orientation also Ni2O3 was found by XRD.
The texture of the films was observed using SEM and AFM, it was observed that the grain size was increased with working pressure.
The energy band gap was found to be in the range of (4.1 eV to 3.9 eV) When the film thickness varying from 73 nm to 146.9 nm.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Agul, Ibrahim R.& Khalaf, Muhammad Khammas& Abd Muslim, Shayma H.& Talaq, Riyad N.. 2015. Reactive DC magnetron sputter deposition and structural properties of NiO thin films. Engineering and Technology Journal،Vol. 33, no. 6B, pp.1082-1092.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-688081
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Agul, Ibrahim R.…[et al.]. Reactive DC magnetron sputter deposition and structural properties of NiO thin films. Engineering and Technology Journal Vol. 33, no. 6B (2015), pp.1082-1092.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-688081
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Agul, Ibrahim R.& Khalaf, Muhammad Khammas& Abd Muslim, Shayma H.& Talaq, Riyad N.. Reactive DC magnetron sputter deposition and structural properties of NiO thin films. Engineering and Technology Journal. 2015. Vol. 33, no. 6B, pp.1082-1092.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-688081
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references : p. 1091-1092
رقم السجل
BIM-688081
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
![](/images/ebook-kashef.png)
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
![](/images/kashef-image.png)