Reactive DC magnetron sputter deposition and structural properties of NiO thin films
Other Title(s)
ماكنترون و الخواص التركيبية لأغشية أوكسيد النيكل DC الترسيب بالترذيذ التفاعلي لل
Joint Authors
Agul, Ibrahim R.
Abd Muslim, Shayma H.
Talaq, Riyad N.
Khalaf, Muhammad Khammas
Source
Engineering and Technology Journal
Issue
Vol. 33, Issue 6B (30 Jun. 2015), pp.1082-1092, 11 p.
Publisher
Publication Date
2015-06-30
Country of Publication
Iraq
No. of Pages
11
Main Subjects
Abstract AR
تم ترسیب أغشية اوكسید النیكل (NiO) باستخدام منظومة بلازما الماكنترون للتیارات المستمرة المحلیة الصنع و بطریقة الترذیذ التفاعلي و بضغوط عمل مختلفة ضمن المدى (0.04-0.05) ملي بار.
و قد تم دراسة تأثیر ضغط العمل على تركیب و مورفولوجیة السطح و الخواص البصریة لأغشية اوكسید النیكل.
و قد أظھرت نتائج حیود الأشعة السینیة أن الأغشية المترسبة ذات تركیب نانوي و بمعدل حجم حبیبي بین (8.145-29.195) نانومتر.
بالإضافة لكون الأغشية ذات طابع متعدد التبلور مع بنیة مكعبة على طول (111)و(101) التوجھ.
و علاوة على ذلك تم العثور على Ni2O3 بواسطة حیود الأشعة السینیة.
كما تم دراسة تركیب الأغشية باستخدام SEM وAFM ، و قد لوحظ زیادة حجم الحبوب مع زیادة ضغط العمل.
و قد وجد أن فجوة الطاقة في حدود (4.1) إلكترون - فولت إلى 3.9 إلكترون - فولت) عندما یكون سمك الغشاء یتراوح بین 73 نانومتر إلى 146.9 نانومتر.
Abstract EN
Nickel oxide (NiO) films were deposited by using a homemade DC reactive magnetron sputtering system at different working pressure in the range (0.05-0.14)mbar.
The effect of working pressure on the structure, surface morphology, optical of NiO films was investigated.
X-ray diffraction (XRD) results suggested that the deposited films were formed by nanoparticles with average particle size in the range of (8.145-29.195) nm.
And the films are identified to be polycrystalline nature with a cubic structure along (111) and (101) orientation also Ni2O3 was found by XRD.
The texture of the films was observed using SEM and AFM, it was observed that the grain size was increased with working pressure.
The energy band gap was found to be in the range of (4.1 eV to 3.9 eV) When the film thickness varying from 73 nm to 146.9 nm.
American Psychological Association (APA)
Agul, Ibrahim R.& Khalaf, Muhammad Khammas& Abd Muslim, Shayma H.& Talaq, Riyad N.. 2015. Reactive DC magnetron sputter deposition and structural properties of NiO thin films. Engineering and Technology Journal،Vol. 33, no. 6B, pp.1082-1092.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-688081
Modern Language Association (MLA)
Agul, Ibrahim R.…[et al.]. Reactive DC magnetron sputter deposition and structural properties of NiO thin films. Engineering and Technology Journal Vol. 33, no. 6B (2015), pp.1082-1092.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-688081
American Medical Association (AMA)
Agul, Ibrahim R.& Khalaf, Muhammad Khammas& Abd Muslim, Shayma H.& Talaq, Riyad N.. Reactive DC magnetron sputter deposition and structural properties of NiO thin films. Engineering and Technology Journal. 2015. Vol. 33, no. 6B, pp.1082-1092.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-688081
Data Type
Journal Articles
Language
English
Notes
Includes bibliographical references : p. 1091-1092
Record ID
BIM-688081
