![](/images/graphics-bg.png)
Photovoltaic properties of CdS Si heterojunction prepared by DC plasma sputtering technique
المؤلفون المشاركون
Subayh, Sabah Habib
Sadkhan, Azhar Kazim
Khalaf, Muhammad Khammas
المصدر
Engineering and Technology Journal
العدد
المجلد 34، العدد 2B (29 فبراير/شباط 2016)، ص ص. 311-315، 5ص.
الناشر
تاريخ النشر
2016-02-29
دولة النشر
العراق
عدد الصفحات
5
التخصصات الرئيسية
الموضوعات
الملخص EN
CdS / Si heterojunction has been fabricated by dc plasma sputtering technique.
Polycrystalline CdS films have been prepared by dc plasma sputtering technique on Si substrate.
The current – voltage under illumination showed that the photocurrent increases with increasing incident illumination intensity for CdS/Si heterojunction.
The CdS thin films have been sputtered under vacuum of (9×10-2 ,8×10-2, 6×10-2,5×10-2) mbar, the heterojunction has better photovoltaic properties.
The open circuit voltage (Voc) and the short circuit current (Isc) were found to vary with working discharge pressure , and the efficiency is 6.72% at 50.3 mW / cm2.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Khalaf, Muhammad Khammas& Subayh, Sabah Habib& Sadkhan, Azhar Kazim. 2016. Photovoltaic properties of CdS Si heterojunction prepared by DC plasma sputtering technique. Engineering and Technology Journal،Vol. 34, no. 2B, pp.311-315.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-689227
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Khalaf, Muhammad Khammas…[et al.]. Photovoltaic properties of CdS Si heterojunction prepared by DC plasma sputtering technique. Engineering and Technology Journal Vol. 34, no. 2B (2016), pp.311-315.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-689227
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Khalaf, Muhammad Khammas& Subayh, Sabah Habib& Sadkhan, Azhar Kazim. Photovoltaic properties of CdS Si heterojunction prepared by DC plasma sputtering technique. Engineering and Technology Journal. 2016. Vol. 34, no. 2B, pp.311-315.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-689227
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
رقم السجل
BIM-689227
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
![](/images/ebook-kashef.png)
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر
![](/images/kashef-image.png)