Field Effect on Crystal Phase of Silicon in SiCeO2SiO2 Structure

المؤلف

Milovzorov, Dmitry E.

المصدر

Journal of Nanomaterials

العدد

المجلد 2008، العدد 2008 (31 ديسمبر/كانون الأول 2008)، ص ص. 1-4، 4ص.

الناشر

Hindawi Publishing Corporation

تاريخ النشر

2008-05-15

دولة النشر

مصر

عدد الصفحات

4

التخصصات الرئيسية

الكيمياء
هندسة مدنية

الملخص EN

The structural, optical, and conductivity properties of silicon film deposited on cerium dioxide buffer layer were studied.

The electronic structure of system consists of various defect levels inside band gap.

The temperature spatial distribution plays a great role in silicon crystallization.

The field destruction of crystal phase and its restoration, after annealing, were investigated.

نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)

Milovzorov, Dmitry E.. 2008. Field Effect on Crystal Phase of Silicon in SiCeO2SiO2 Structure. Journal of Nanomaterials،Vol. 2008, no. 2008, pp.1-4.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-988109

نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)

Milovzorov, Dmitry E.. Field Effect on Crystal Phase of Silicon in SiCeO2SiO2 Structure. Journal of Nanomaterials No. 2008 (2008), pp.1-4.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-988109

نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)

Milovzorov, Dmitry E.. Field Effect on Crystal Phase of Silicon in SiCeO2SiO2 Structure. Journal of Nanomaterials. 2008. Vol. 2008, no. 2008, pp.1-4.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-988109

نوع البيانات

مقالات

لغة النص

الإنجليزية

الملاحظات

Includes bibliographical references

رقم السجل

BIM-988109