Influence de quelques parametres de depot sur le niveau de contraintes residuelles dans les couches minces de chrome obtenues par pvd

Abstract FRE

Cette étude porte sur des dépôts de couches minces dures de chrome élaborées par pulvérisation cathodique (PVD) et leur caractérisation.

Des films de chrome ont été préparés par pulvérisation RF.

L’influence de l’épaisseur des films, de la puissance appliquée à la cible sur les contraintes résiduelles a été étudiée.

L’analyse des contraintes résiduelles par le dispositif des anneaux de Newton, pour différentes épaisseurs, montre l’existence d’un pic de contraintes entre 170 et 200 nm et ce pour une puissance de l’ordre de 200 W.

Ce qui vérifie d’une part les résultats obtenus lors de précédentes études sur CrN, BN, AlN ou ZrBN et d’autre part, le modèle de croissance proposé par Nouveau et all.

[1].