Effect of different etching parameters on resistivity of silicon nano-material

Other Title(s)

تأثير عوامل القشط المختلفة على المقاومية النوعية لمادة السليكون النانوي

Joint Authors

Abbas, Adi Arkan
Numan, Qahtan Abbas
Rahim, Abbas Hasan

Source

Journal of Kufa-Physics

Issue

Vol. 1, Issue 2 (31 Dec. 2009), pp.100-107, 8 p.

Publisher

University of Kufa Faculty of Science Department of Physics

Publication Date

2009-12-31

Country of Publication

Iraq

No. of Pages

8

Main Subjects

Physics

Topics

Abstract AR

تم في هذا البحث تحضير مادة السليكون النانوي التراكيب باستخدام طرق القشط الكهروكيميائية و الكيميائية – الكهروضوئية لشرئح سليكون ذات توصيلية كهربائية من نوع n و p في حامض الهايدروفلوريك بتركيز 24.5%.

عمليات القشط تم إنجازها تحت شروط تحضير متغيرة مثل المقاومية النوعية لقواعد السليكون المستخدمة، زمن القشط، كثافة التيار و كذلك الإضاءة و ذلك لدراسة تأثير هذه العوامل على المقاومية النوعية لطبقات السليكون المسامي المحضرة.

Abstract EN

Silicon nano-material have been prepared in this work via electrochemical (EC) and photoelectrochemical (PEC) etching processes of n and p-type silicon wafers in hydrofluoric (HF) acid of 24.

5 % concentration.

All conditions preparation such as substrate resistivity, etching time, current density and illumination have been changed to study the effect of these parameters on resistivity of these porous silicon layers.

American Psychological Association (APA)

Abbas, Adi Arkan& Numan, Qahtan Abbas& Rahim, Abbas Hasan. 2009. Effect of different etching parameters on resistivity of silicon nano-material. Journal of Kufa-Physics،Vol. 1, no. 2, pp.100-107.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-379566

Modern Language Association (MLA)

Abbas, Adi Arkan…[et al.]. Effect of different etching parameters on resistivity of silicon nano-material. Journal of Kufa-Physics Vol. 1, no. 2 (2009), pp.100-107.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-379566

American Medical Association (AMA)

Abbas, Adi Arkan& Numan, Qahtan Abbas& Rahim, Abbas Hasan. Effect of different etching parameters on resistivity of silicon nano-material. Journal of Kufa-Physics. 2009. Vol. 1, no. 2, pp.100-107.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-379566

Data Type

Journal Articles

Language

English

Notes

Includes bibliographical references : p. 107

Record ID

BIM-379566