Morphology engineering and etching of graphene domain by low-pressure chemical vapor deposition
المؤلفون المشاركون
Wang, Chen
Xie, Ning
Jiang, Bang Bang
Pan, Ming
Li, Hua Fei
Hu, Hai Yan
Yan, Xiao Ling
Wu, Marvin H.
Vinodgopal, K.
Dai, Gui Ping
Wu, Fan
المصدر
Journal of Saudi Chemical Society
العدد
المجلد 23، العدد 2 (28 فبراير/شباط 2019)، ص ص. 162-170، 9ص.
الناشر
تاريخ النشر
2019-02-28
دولة النشر
السعودية
عدد الصفحات
9
التخصصات الرئيسية
الموضوعات
الملخص EN
Controlled growth of single-crystal high-quality ‘track-and-field ground’ shaped graphene domains and the morphological evolution from hexagonal to hexagram graphene domain even square and circular graphene domain has been achieved by low-pressure CVD on solid copper substrate, thereby demonstrating that the shape of the graphene grains can potentially be precisely tuned by optimizing growth parameters.
The etching reaction of graphene has also been studied, and results show that a low flow rate of hydrogen (99.999%) is favorable to form hexagonal structure for the etching reaction of graphene due to the exist of oxygen or oxidizing impurities in hydrogen gas commonly used.
Controlled growth and etching reaction of graphene determine the final shape of graphene domains and all these efforts contribute to the study of size and morphology and the growth mechanism of graphene domains.
نمط استشهاد جمعية علماء النفس الأمريكية (APA)
Jiang, Bang Bang& Pan, Ming& Wang, Chen& Li, Hua Fei& Xie, Ning& Hu, Hai Yan…[et al.]. 2019. Morphology engineering and etching of graphene domain by low-pressure chemical vapor deposition. Journal of Saudi Chemical Society،Vol. 23, no. 2, pp.162-170.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-892779
نمط استشهاد الجمعية الأمريكية للغات الحديثة (MLA)
Jiang, Bang Bang…[et al.]. Morphology engineering and etching of graphene domain by low-pressure chemical vapor deposition. Journal of Saudi Chemical Society Vol. 23, no. 2 (Feb. 2019), pp.162-170.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-892779
نمط استشهاد الجمعية الطبية الأمريكية (AMA)
Jiang, Bang Bang& Pan, Ming& Wang, Chen& Li, Hua Fei& Xie, Ning& Hu, Hai Yan…[et al.]. Morphology engineering and etching of graphene domain by low-pressure chemical vapor deposition. Journal of Saudi Chemical Society. 2019. Vol. 23, no. 2, pp.162-170.
https://search.emarefa.net/detail/BIM-892779
نوع البيانات
مقالات
لغة النص
الإنجليزية
الملاحظات
Includes bibliographical references : p. 169-170
رقم السجل
BIM-892779
قاعدة معامل التأثير والاستشهادات المرجعية العربي "ارسيف Arcif"
أضخم قاعدة بيانات عربية للاستشهادات المرجعية للمجلات العلمية المحكمة الصادرة في العالم العربي
تقوم هذه الخدمة بالتحقق من التشابه أو الانتحال في الأبحاث والمقالات العلمية والأطروحات الجامعية والكتب والأبحاث باللغة العربية، وتحديد درجة التشابه أو أصالة الأعمال البحثية وحماية ملكيتها الفكرية. تعرف اكثر